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(文/吴嘉熙）3月8日，上海新阳在投资者互动渠道表明，公司用于存储器芯片的氮化硅蚀刻液为承当的国家科技项目原创产品。该产品已完成出售，为实在国家开展自主可控的氮化硅蚀刻液做出重要贡献。随商场及客户的实在需求的添加，上海新阳也将继续开发更高等级的蚀刻液产品。
上海新阳还在渠道表明，公司ArF光刻胶尚在认证。EUV光刻胶尚在研制阶段。上海新阳与贺立氏集团的协作主要是光刻胶原材料开发等相关这类的产品，经过两边各自在产品领域内的优势互补及早完成光刻胶产品国产化的自主可控。
据悉，上海新阳迄今承当国家02专项研制项目有：“65-45nm芯片铜互连超高纯电镀液及添加剂研制和工业化”、“20-14nm先导产品工艺开发”项目使命课题“高速主动电镀线研制与工业”项目、“铜互连电镀工艺技术及产品的研制”等。
材料显现，上海新阳现在主要是做两类事务：一类是集成电路制作及先进封装用要害工艺材料及配套设备的研制、出产、出售和服务，并为客户供给全体化解决方案；另一类是环保型、功能性涂料的研制、出产及相关服务事务，并为客户供给专业的全体涂装事务解决方案。其根本的产品是半导体晶圆制作及先进封装用电镀液及添加剂、半导体晶圆制作用清洗剂、半导体封装用电子化学材料、半导体制作用高端光刻胶产品、半导体配套设备产品。